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IBM实现技术新突破9nm碳纳米管克服关

2019-08-15 19:09:13来源:励志吧0次阅读

  IBM研究部门表示,他们已经找到了一种方法来克服碳纳米晶体管实施上的关键障碍。该公司指出,将碳纳米晶体管缩到更小的尺寸,受限于两个方面:其一是设备沟道的大小、其二是接触面的大小。IBM表示,制作带沟道的碳纳米管是比较轻松的,但难点在于如何连接它们。部署导线是一项重大的挑战,与传统方式相比,在这么小的尺度上,其电阻抗性也会增加。

  该公司于今日宣布了一项创新突破,其涉及到用钼元素材料来制作纳米通道两端的接触点,然后直接将这些接触点连至晶体管线的侧面。通过这种方法,晶体管尺度的缩小就不会增加接触电阻。

  IBM研究人员表示,他们已经成功地用这种方法制作出了9nm的晶体管,并且预计该技术可用于1.8nm的节点。

  在一篇博客文章中,研究员Shu-Jen Han概述了碳纳米晶体管的下一个挑战:该公司现有一种用于定位纳米管的解决方案,但还必须找到一种方法来消除上面的金属(不适用于打造晶体管的部分约为 %)。

  下面是近距离看碳纳米管的样子。

  眼下,Han说他的团队已经开发出了一种自组装碳纳米管、并在晶圆上面定位它们的方法。他预计未来的挑战是提升纳米管的密度,以便将整个晶圆的制程缩减到10nm甚至更小的间距。

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